K&F Concept Nano-X CPL
K&F Concept Nano-X MRC CPL apvalus poliarizuojantis filtras yra tikras perversmas fotografams. Su savo suderinamumu su objektyvais, turinčiais 86 mm sriegį, galite lengvai susidoroti su nepageidaujamu atspindžiu ir pakelti savo nuotraukas į naują lygį.
Šis išskirtinis filtras turi poliarizuojančio stiklo iš AGC Japonijoje, užtikrinančio nuostabų ryškumą ir spalvų atkūrimą. 28 sluoksnių NANOTEC danga sumažina atspindžius iki minimumo (tik 0,2% atspindžio) ir yra papildyta tvirta aliuminio lydinio konstrukcija, suteikiančia papildomą stiprumą.
K&F Concept Nano-X CPL filtras siūlo neprilygstamą kontrolę per poliarizacijos efektą, leidžiantį jums jį reguliuoti pagal savo kūrybinę viziją. Sukite jį, kad pabrėžtumėte mėlyno dangaus intensyvumą, pridėtumėte gylio žaliems medžių ir lapų atspalviams arba visiškai sumažintumėte atspindžius. Be to, jo hidrofobinės savybės palengvina valymą.
Pagrindinės savybės:
- Apvalus poliarizuojantis filtras su 86 mm sriegio
- 28 sluoksnių NANOTEC danga, sumažinanti atspindžius (0,2% atspindžio)
- Poliarizuojantis stiklas iš AGC Japonijoje, užtikrinantis išskirtinį ryškumą ir spalvų atkūrimą
- Hidrofobinės savybės, palengvinančios valymą
- Įtraukta apsauginė dėžutė
- Tvirta aliuminio lydinio konstrukcija
Techninės specifikacijos:
- Srieginio dydis: 86 mm
- Medžiaga: Aliuminio lydinys (5,5 mm storio)
- Danga: NANOTEC (28 sluoksniai)
- Atspindys: 0,2%
Pristatymas: 1-7 d.d.
